涂布模头 垫片 滤芯 储能柜
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磁控溅射真空镀膜设备
- 规格型号:CK1200×600
- 产品描述:该产品为磁控溅射真空镀膜设备。 磁控溅射属于物理气相沉积（PVD），是在电场+正交磁场共同作用下，利用高能惰性气体离子轰击靶材，使靶材原子/分子被溅射出来，并在基底上沉积形成致密薄膜的技术。 此款设备主要应用于钙钛矿太阳能电池空穴传输层、电极层的制备，可提供定制化的设备配置，灵活匹配客户的生产节拍与产能规划。
- 发货天数:180天 发货天数以下单次日起算，不含周日与法定假日
物料选型： 参数重置
设备尺寸A*B*C（mm）:定制
设备重量（kg）:定制
输入电源电压:380V±10%
输入电源电流:≤500A
适配工段:镀膜
环境温度:≤25℃
环境湿度:≤40%RH 无凝露
装载规格:1200mm×600mm及以下
生产节拍:定制
膜层均一性:≤±5%
镀膜材料类型:导电材料、绝缘材料
电源类型:射频、直流或其他
阴极:平面、旋转
通信接口:以太网
设备噪声:＜70db(A)
设备外观:可定制
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服务须知
- 由曼恩斯特统一发货，并提供专人对接的优质快速售后服务
- 因库存实时变化，具体发货时间以实际发货为准
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